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                  無錫創想分析儀器有限公司

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                  光譜儀的入射狹縫定位和描跡

                  發布時間:2020-08-10 08:53:47         點擊:4948

                         由于溫度變化及其它因素的影響,可能引起譜線漂移,為保證譜線和出射狹縫穩定重合,應定期用描跡的方法進行調整,使所有出射狹縫調整到較理想的位置上。描跡的方法是轉動入射狹縫的手輪,描跡一條譜線,找出其峰值的位置,然后將手輪轉到該峰值的位置,使各個分析元素譜線對準各自的出射狹縫。制作工作曲線時,應該進行描跡。

                  光譜儀的入射狹縫定位和描跡

                  光譜儀的入射狹縫定位和描跡


                  描跡步驟

                         描跡指的是校準儀器機械誤差的,校準檢測器和羅蘭圓的位置的,使其恢復到出廠設置。

                         在實際工作中,還要根據光譜儀的功能、分析試樣的種類、結構等情況并結合生產實際作出標準曲線,標準曲線作出后,還要對曲線線性、分析結果、控樣修正等問題進行討論,這些都是非常重要的工作。

                   

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